TY  - RPRT
TI  - Atomic layer deposition of HfO2 on graphene from HfCl4 and H20
AU  - Harry Alles
AU  - Jaan Aarik
AU  - Aleks Aidla
AU  - Aurelien Fay
AU  - Jekaterina Kozlova
AU  - Ahti Niilisk
AU  - Martti Pärs
AU  - Mihkel Rähn
AU  - Maciej Wiesner
AU  - Pertti Hakonen
AU  - Väino Sammelselg
PY  - 2010
DO  - 10.2478/s11534-010-0098-5
UR  - https://arxiv.org/abs/1005.1469
ID  - 1005.1469
ER  -