TY  - RPRT
TI  - Anisotropic Vapor HF etching of silicon dioxide for Si microstructure release
AU  - Vikram Passi
AU  - Ulf Sodervall
AU  - Bengt Nilsson
AU  - Goran Petersson
AU  - Mats Hagberg
AU  - Christophe Krzeminski
AU  - Emmanuel Dubois
AU  - Bert Du Bois
AU  - Jean-Pierre Raskin
PY  - 2012
DO  - 10.1016/j.mee.2012.01.005
UR  - https://arxiv.org/abs/1207.2402
ID  - 1207.2402
ER  -