TY  - RPRT
TI  - Inductively Coupled Plasma etching of amorphous silicon nanostructures over nanotopography using C4F8/SF6 chemistry
AU  - Patrick Harvey-Collard
AU  - Abdelatif Jaouad
AU  - Dominique Drouin
AU  - Michel Pioro-Ladrière
PY  - 2013
DO  - 10.1016/j.mee.2013.02.099
UR  - https://arxiv.org/abs/1305.0589
ID  - 1305.0589
ER  -