TY  - RPRT
TI  - Layout decomposition for triple patterning lithography
AU  - Bei Yu
AU  - Kun Yuan
AU  - Boyang Zhang
AU  - Duo Ding
AU  - David Z. Pan
PY  - 2014
DO  - 10.1109/iccad.2011.6105297
UR  - https://arxiv.org/abs/1402.2459
ID  - 1402.2459
ER  -