TY  - RPRT
TI  - Influence of Stoichiometry on the Optical and Electrical Properties of Chemical Vapor Deposition Derived MoS$_{2}$
AU  - In Soo Kim
AU  - Vinod K. Sangwan
AU  - Deep Jariwala
AU  - Joshua D. Wood
AU  - Spencer Park
AU  - Kan-Sheng Chen
AU  - Fengyuan Shi
AU  - Francisco Ruiz-Zepeda
AU  - Arturo Ponce
AU  - Miguel Jose-Yacaman
AU  - Vinayak P. Dravid
AU  - Tobin J. Marks
AU  - Mark C. Hersam
AU  - Lincoln J. Lauhon
PY  - 2014
DO  - 10.1021/nn503988x
UR  - https://arxiv.org/abs/1409.5167
ID  - 1409.5167
ER  -