TY  - RPRT
TI  - Etching Mechanism of Niobium in Coaxial Ar/Cl2 RF Plasma
AU  - J. Upadhyay
AU  - Do Im
AU  - S. Popović
AU  - A. -M. Valente-Feliciano
AU  - L. Phillips
AU  - L. Vušković
PY  - 2014
DO  - 10.1063/1.4914298
UR  - https://arxiv.org/abs/1411.0176
ID  - 1411.0176
ER  -