TY  - RPRT
TI  - Substrate effects and diffusion dominated roughening in Cu2O electrodeposition
AU  - I. S. Brandt
AU  - V. C. Zoldan
AU  - V. Stenger
AU  - C. C. Pla Cid
AU  - A. A. Pasa
AU  - T. J. Oliveira
AU  - F. D. A. Aarao Reis
PY  - 2015
DO  - 10.1063/1.4932642
UR  - https://arxiv.org/abs/1509.04787
ID  - 1509.04787
ER  -