TY  - RPRT
TI  - Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous Si on graphene
AU  - G. Lupina
AU  - C. Strobel
AU  - J. Dabrowski
AU  - G. Lippert
AU  - J. Kitzmann
AU  - H. M. Krause
AU  - Ch. Wenger
AU  - M. Lukosius
AU  - A. Wolff
AU  - M. Albert
AU  - J. W. Bartha
PY  - 2016
DO  - 10.1063/1.4948978
UR  - https://arxiv.org/abs/1605.05099
ID  - 1605.05099
ER  -