TY  - RPRT
TI  - 99.992 % $^{28}$Si CVD-grown epilayer on 300 mm substrates for large scale integration of silicon spin qubits
AU  - V. Mazzocchi
AU  - P. G. Sennikov
AU  - A. D. Bulanov
AU  - M. F. Churbanov
AU  - B. Bertrand
AU  - L. Hutin
AU  - J. P. Barnes
AU  - M. N. Drozdov
AU  - J. M. Hartmann
AU  - M. Sanquer
PY  - 2018
DO  - 10.1016/j.jcrysgro.2018.12.010
UR  - https://arxiv.org/abs/1807.04968
ID  - 1807.04968
ER  -