TY  - RPRT
TI  - Overlay Accuracy Limitations of Soft Stamp UV Nanoimprint Lithography and Circumvention Strategies for Device Applications
AU  - Piotr Jacek Cegielski
AU  - Jens Bolten
AU  - Jung Wuk Kim
AU  - Florian Schlachter
AU  - Christoph Nowak
AU  - Thorsten Wahlbrink
AU  - Anna Lena Giesecke
AU  - Max Christian Lemme
PY  - 2018
DO  - 10.1016/j.mee.2018.06.004
UR  - https://arxiv.org/abs/1808.01320
ID  - 1808.01320
ER  -