TY  - RPRT
TI  - Atomic process of oxidative etching in monolayer molybdenum disulfide
AU  - Danhui Lv
AU  - Hulian Wang
AU  - Dancheng Zhu
AU  - Jie Lin
AU  - Guoli Yin
AU  - Fang Lin
AU  - Ze Zhang
AU  - Chuanhong Jin
PY  - 2018
DO  - 10.1016/j.scib.2017.05.016
UR  - https://arxiv.org/abs/1811.04242
ID  - 1811.04242
ER  -