TY  - RPRT
TI  - Properties of Al2O3 thin films deposited on 4H-SiC by reactive ion sputtering
AU  - P. Fiorenza
AU  - M. Vivona
AU  - S. Di Franco
AU  - E. Smecca
AU  - S. Sanzaro
AU  - A. Alberti
AU  - M. Saggio
AU  - F. Roccaforte
PY  - 2019
DO  - 10.1016/j.mssp.2019.01.017
UR  - https://arxiv.org/abs/1906.03092
ID  - 1906.03092
ER  -