TY  - RPRT
TI  - Patterning Sn-based EUV resists with low-energy electrons
AU  - Ivan Bespalov
AU  - Yu Zhang
AU  - Jarich Haitjema
AU  - Rudolf M. Tromp
AU  - Sense Jan van der Molen
AU  - Albert M. Brouwer
AU  - Johannes Jobst
AU  - Sonia Castellanos
PY  - 2019
UR  - https://arxiv.org/abs/1910.02511
ID  - 1910.02511
ER  -