TY  - RPRT
TI  - Role of ALD Al2O3 surface passivation on the performance of p-type Cu2O thin film transistors
AU  - Mari Napari
AU  - Tahmida N. Huq
AU  - David J. Meeth
AU  - Mikko J. Heikkilä
AU  - Kham M. Niang
AU  - Han Wang
AU  - Tomi Iivonen
AU  - Haiyan Wang
AU  - Markku Leskelä
AU  - Mikko Ritala
AU  - Andrew J. Flewitt
AU  - Robert L. Z. Hoye
AU  - Judith L. MacManus-Driscol
PY  - 2020
UR  - https://arxiv.org/abs/2010.10928
ID  - 2010.10928
ER  -