TY  - RPRT
TI  - Surface Diffusion Control Enables Tailored Aspect Ratio Nanostructures in Area-Selective Atomic Layer Deposition
AU  - Philip Klement
AU  - Daniel Anders
AU  - Lukas Gümbel
AU  - Michele Bastianello
AU  - Fabian Michel
AU  - Jörg Schörmann
AU  - Matthias T. Elm
AU  - Christian Heiliger
AU  - Sangam Chatterjee
PY  - 2020
UR  - https://arxiv.org/abs/2012.04465
ID  - 2012.04465
ER  -