TY  - RPRT
TI  - Aluminum Oxide at the Monolayer Limit via Oxidant-free Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition on GaN
AU  - Alex Henning
AU  - Johannes D. Bartl
AU  - Andreas Zeidler
AU  - Simon Qian
AU  - Oliver Bienek
AU  - Chang-Ming Jiang
AU  - Claudia Paulus
AU  - Bernhard Rieger
AU  - Martin Stutzmann
AU  - Ian D. Sharp
PY  - 2021
UR  - https://arxiv.org/abs/2102.03642
ID  - 2102.03642
ER  -