TY  - RPRT
TI  - Double Step Annealing for the Recovering of Ion Implantation Defectiveness in 4H-SiC DIMOSFET
AU  - Massimo Zimbone
AU  - Nicolo Piluso
AU  - Grazia Litrico
AU  - Roberta Nipoti
AU  - Riccardo Reitano
AU  - MariaConcetta Canino
AU  - Maria Ausilia Di Stefano
AU  - Simona Lorenti
AU  - Francesco La Via
PY  - 2021
UR  - https://arxiv.org/abs/2104.12467
ID  - 2104.12467
ER  -