TY  - RPRT
TI  - Enhanced metal-insulator transition in freestanding VO2 down to 5 nm thickness
AU  - Kun Han
AU  - Liang Wu
AU  - Yu Cao
AU  - Hanyu Wang
AU  - Chen Ye
AU  - Ke Huang
AU  - M. Motapothula
AU  - Hongna Xing
AU  - Xinghua Li
AU  - Dong-Chen Qi
AU  - Xiao Li
AU  - X. Renshaw Wang
PY  - 2021
DO  - 10.1021/acsami.1c01581
UR  - https://arxiv.org/abs/2105.00154
ID  - 2105.00154
ER  -