TY  - RPRT
TI  - Wet Scandium Etching for hard mask formation on a silicon substrate
AU  - Julia Bondareva
AU  - Ekaterina Timofeeva
AU  - Alexandr Anikanov
AU  - Maxim Krasilnikov
AU  - Maxim Shibalov
AU  - Vasily Sen
AU  - Alexander Mumlyakov
AU  - Stanislav Evlashin
AU  - Mikhail Tarkhov
PY  - 2022
DO  - 10.1016/j.tsf.2022.139543
UR  - https://arxiv.org/abs/2110.13639
ID  - 2110.13639
ER  -