TY  - RPRT
TI  - Comparison of the material quality of AlxIn1-xN (x ~ 0-0.50) films deposited on Si (100) and (111) by reactive RF sputtering
AU  - M. Sun
AU  - R. Blasco
AU  - M. de la Mata
AU  - S. I. Molina
AU  - A. Ajay
AU  - E. Monroy
AU  - S. Valdueza-Felip
AU  - F. B. Naranjo
PY  - 2021
DO  - 10.3390/ma15207373
UR  - https://arxiv.org/abs/2112.12890
ID  - 2112.12890
ER  -