TY  - RPRT
TI  - Development of SiGe Indentation Process Control for Gate-All-Around FET Technology Enablement
AU  - Daniel Schmidt
AU  - Aron Cepler
AU  - Curtis Durfee
AU  - Shanti Pancharatnam
AU  - Julien Frougier
AU  - Mary Breton
AU  - Andrew Greene
AU  - Mark Klare
AU  - Roy Koret
AU  - Igor Turovets
PY  - 2022
DO  - 10.1109/tsm.2022.3168585
UR  - https://arxiv.org/abs/2201.04725
ID  - 2201.04725
ER  -