TY  - RPRT
TI  - Scalable, Highly Crystalline, 2D Semiconductor Atomic Layer Deposition Process for High Performance Electronic Applications
AU  - Nikolaos Aspiotis
AU  - Katrina Morgan
AU  - Benjamin März
AU  - Knut Müller-Caspary
AU  - Martin Ebert
AU  - Chung-Che Huang
AU  - Daniel W. Hewak
AU  - Sayani Majumdar
AU  - Ioannis Zeimpekis
PY  - 2022
UR  - https://arxiv.org/abs/2203.10309
ID  - 2203.10309
ER  -