TY  - RPRT
TI  - Fabrication of highly resistive NiO thin films for nanoelectronic applications
AU  - Johannes Mohr
AU  - Tyler Hennen
AU  - Daniel Bedau
AU  - Joyeeta Nag
AU  - Rainer Waser
AU  - Dirk J. Wouters
PY  - 2022
UR  - https://arxiv.org/abs/2207.10837
ID  - 2207.10837
ER  -