TY  - RPRT
TI  - Operando Characterization and Molecular Simulations Reveal the Growth Kinetics of Graphene on Liquid Copper during Chemical Vapor Deposition
AU  - Valentina Rein
AU  - Hao Gao
AU  - Hendrik H. Heenen
AU  - Wissal Sghaier
AU  - Anastasios C. Manikas
AU  - Mehdi Saedi
AU  - Johannes T. Margraf
AU  - Costas Galiotis
AU  - Gilles Renaud
AU  - Oleg V. Konovalov
AU  - Irene M. N. Groot
AU  - Karsten Reuter
AU  - Maciej Jankowski
PY  - 2024
DO  - 10.1021/acsnano.4c02070
UR  - https://arxiv.org/abs/2305.18331
ID  - 2305.18331
ER  -