TY  - RPRT
TI  - Impact of Top SiO2 interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure
AU  - Tao Hu
AU  - Xianzhou Shao
AU  - Mingkai Bai
AU  - Xinpei Jia
AU  - Saifei Dai
AU  - Xiaoqing Sun
AU  - Runhao Han
AU  - Jia Yang
AU  - Xiaoyu Ke
AU  - Fengbin Tian
AU  - Shuai Yang
AU  - Junshuai Chai
AU  - Hao Xu
AU  - Xiaolei Wang
AU  - Wenwu Wang
AU  - Tianchun Ye
PY  - 2024
UR  - https://arxiv.org/abs/2404.15825
ID  - 2404.15825
ER  -