TY  - RPRT
TI  - Reproducible Monolayer MoS2 Devices Free of Resist Contamination by Gold Mask Lithography
AU  - Yumeng Liu
AU  - Yizhuo Wang
AU  - Zhengfang Fan
AU  - Jianyong Wei
AU  - Shuwen Guo
AU  - Zhijuan Su
AU  - Yaping Dan
PY  - 2024
UR  - https://arxiv.org/abs/2411.02205
ID  - 2411.02205
ER  -