TY  - RPRT
TI  - Effect of Top Al$_2$O$_3$ Interlayer Thickness on Memory Window and Reliability of FeFETs With TiN/Al$_2$O$_3$/Hf$_{0.5}$Zr$_{0.5}$O$_2$/SiO$_x$/Si (MIFIS) Gate Structure
AU  - Tao Hu
AU  - Xinpei Jia
AU  - Runhao Han
AU  - Jia Yang
AU  - Mingkai Bai
AU  - Saifei Dai
AU  - Zeqi Chen
AU  - Yajing Ding
AU  - Shuai Yang
AU  - Kai Han
AU  - Yanrong Wang
AU  - Jing Zhang
AU  - Yuanyuan Zhao
AU  - Xiaoyu Ke
AU  - Xiaoqing Sun
AU  - Junshuai Chai
AU  - Hao Xu
AU  - Xiaolei Wang
AU  - Wenwu Wang
AU  - Tianchun Ye
PY  - 2024
UR  - https://arxiv.org/abs/2411.08558
ID  - 2411.08558
ER  -