TY  - RPRT
TI  - Dissociative photoionization of EUV lithography photoresist models
AU  - Marziogiuseppe Gentile
AU  - Marius Gerlach
AU  - Robert Richter
AU  - Michiel J. van Setten
AU  - John S. Petersen
AU  - Paul van der Heide
AU  - Fabian Holzmeier
PY  - 2024
DO  - 10.1117/12.2657702
UR  - https://arxiv.org/abs/2411.10177
ID  - 2411.10177
ER  -