TY  - RPRT
TI  - Monolayer Capping Provides Close to Optimal Resistance to Laser Dewetting of Au Films
AU  - Christopher P. Murray
AU  - Daniyar Mamyraimov
AU  - Mugahid Ali
AU  - Clive Downing
AU  - Ian M. Povey
AU  - David McCloskey
AU  - David D. O'Regan
AU  - John F. Donegan
PY  - 2024
DO  - 10.1021/acsaelm.3c00052
UR  - https://arxiv.org/abs/2412.14101
ID  - 2412.14101
ER  -