TY  - RPRT
TI  - Fundamental Understanding of Exposure and Process Chemistry for Enhanced Lithography and Stability of Metal Oxide Resists
AU  - Kevin M. Dorney
AU  - Ivan Pollentier
AU  - Fabian Holzmeier
AU  - Roberto Fallica
AU  - Ying-Lin Chen
AU  - Lorenzo Piatti
AU  - Dhirendra Singh
AU  - Laura Galleni
AU  - Michiel J. van Setten
AU  - Hyo Seon Suh
AU  - Danilo De Simone
AU  - Geoffrey Pourtois
AU  - Paul van der Heide
AU  - John Petersen
PY  - 2025
DO  - 10.1117/12.3051260
UR  - https://arxiv.org/abs/2505.07639
ID  - 2505.07639
ER  -