TY  - RPRT
TI  - Chemical vapor deposition growth of continuous monolayer antiferromagnetic CrOCl films
AU  - Chao Chen
AU  - Yulu Liu
AU  - Hongyan Lu
AU  - Zihao Wang
AU  - Bowen Zheng
AU  - Qian Guo
AU  - Jingkuan Xiao
AU  - Ping Wang
AU  - Wanting Xu
AU  - Yulin Han
AU  - Mingxuan Chen
AU  - Xiaofan Cai
AU  - Jiabei Huang
AU  - Yaqing Han
AU  - Di Zhang
AU  - Renjun Du
AU  - Alexander S. Mayorov
AU  - Ziying Li
AU  - Shuai Zhang
AU  - Yi Huang
AU  - Tingting Cheng
AU  - Zhaolong Chen
AU  - Ronghua Liu
AU  - Nujiang Tang
AU  - Haibo Ni
AU  - Di Wu
AU  - Libo Gao
AU  - Xiaoxiang Xi
AU  - Qianghua Wang
AU  - Lei Wang
AU  - Kostya S. Novoselov
AU  - Geliang Yu
PY  - 2025
DO  - 10.1038/s41467-025-66142-8
UR  - https://arxiv.org/abs/2511.14189
ID  - 2511.14189
ER  -