TY  - RPRT
TI  - Step bunching during Si(001) homoepitaxy caused by the surface diffusion anisotropy
AU  - J. Myslivecek
AU  - C. Schelling
AU  - F. Schaffler
AU  - G. Springholz
AU  - P. Smilauer
AU  - J. Krug
AU  - B. Voigtlander
PY  - 2002
UR  - https://arxiv.org/abs/cond-mat/0212331
ID  - cond-mat/0212331
ER  -