TY  - RPRT
TI  - Structural and electrical properties of tantalum nitride thin films fabricated by using reactive radio-frequency magnetron sputtering
AU  - H. B. Nie
AU  - S. Y. Xu
AU  - S. J. Wang
AU  - L. P. You
AU  - Z. Yang
AU  - C. K. Ong
AU  - J. Li
AU  - T. Y. F. Liew
PY  - 2003
UR  - https://arxiv.org/abs/cond-mat/0305683
ID  - cond-mat/0305683
ER  -